1.集成電路廢氣簡述

集成電路是把特定電路所需的各種電子組件及線路，縮小并制作在極小面積上的一種電子產品。集成電路芯片制造主要以晶圓為基本材料，其生產工藝過程包括硅片清洗、硅片氧化、擴散、化學氣相沉積、離子植入、金屬化、光刻、蝕刻以及化學機械研磨等，這些工序反復交叉，包括檢測和測試在內實際達到300左右的工藝步數。但是在這些工藝過程中產生酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣等污染物，此類污染物如果不經過凈化處理而排放會對環境和人身體健康產生危害，為了減少大氣污染、凈化空氣達標排放，因此，需要對集成電路廢氣進行凈化處理后達標排放。

2.集成電路廢氣處理方法

集成電路在制造生產過程產生酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣等污染物。對于酸性氣體處理采用堿液噴淋洗滌法，堿性氣體處理采用酸液噴淋洗滌法，而對于有機廢氣處理方法有很多種，常見主要有活性炭吸附法、燃燒法、UV光解凈化法，下面天浩洋環保小編詳細介紹集成電路廢氣處理方法。

2.1 酸性、堿性氣體處理方法

酸性廢氣處理方法是采用“堿液噴淋塔”進行處理，以10%的氫氧化鈉溶液為吸收液。堿性廢氣處理方法是采用“酸液噴淋塔”進行處理，以10%的硫酸溶液為吸收液。酸性、堿性廢氣洗滌凈化法，在酸堿性氣體處理中應用相當普遍，具有運行穩定，處理效果好，投資少，處理費用低等優點。

2.2 有機廢氣處理方法

（1）活性炭吸附法

活性炭吸附法主要原理就是利用多孔固體吸附劑（活性碳、硅膠、分子篩等）來處理有機廢氣，這樣就能夠通過化學鍵力或者是分子引力充分吸附有害成分，并且將其吸附在吸附劑的表面，從而達到凈化有機廢氣的目的。吸附法目前主要應用于大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆粒物、無粘性物、常溫的低濃度有機廢氣凈化處理。

活性炭凈化率高（活性炭吸附可達到90%以上），實用遍及，操縱簡單，投資低。在吸附飽和以后需要更換新的活性炭，更換活性炭需要費用，替換下來的飽和以后的活性炭也是需要找專業人員進行危廢處理，運行費用高。

（2）燃燒法

燃燒法只在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件下進行完全燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適用于各類有機廢氣，可以分為直接燃燒、熱力燃燒和催化燃燒。

排放濃度大于5000mg/m3 的高濃度廢氣一般采用直接燃燒法，該方法將VOCs廢氣作為燃料進行燃燒，燃燒溫度一般控制在1100℃，處理效率高，可以達到95％一99％。

熱力燃燒法適合于處理濃度在1000—5000 mg/m3 的廢氣，采用熱力燃燒法，廢氣中VOCs濃度較低，需要借助其他燃料或助燃氣體，熱力燃燒所需的溫度較直接燃燒低，大約為540—820℃。燃燒法處理VOCs廢氣處理效率高，但VOCs廢氣若含有S、N等元素，燃燒后產生的廢氣直接外排會導致二次污染。

通過熱力燃燒或者催化燃燒法處理有機廢氣，其凈化率是比較高的，但是其投資運營成本極高。因廢氣排放的點多且分散，很難實現集中收集。燃燒裝置需要多套且需要很大的占地面積。熱力燃燒比較適合24小時連續不斷運行且濃度較高而穩定的廢氣工況，不適合間斷性的生產產線工況。催化燃燒的投資和運營費用相對熱力燃燒較低，但凈化效率也相對較低一些；但貴金屬催化劑容易因為廢氣中的雜質（如硫化物）等造成中毒失效，而更換催化劑的費用很高；同時對廢氣進氣條件的控制非常嚴格，否則會造成催化燃燒室堵塞而引起安全事故。

（3）UV光解凈化法

UV光解凈化法利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧（即活性氧），因游離氧所攜帶正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、CO2和H2O。

UV光解凈化法具有高效處理效率，可達到95%以上；適應性強，可適應中低濃度，大氣量，不同有機廢氣以及惡臭氣體物質的凈化處理；產品性能穩定，運行穩定可靠，每天可24小時連續工作；運行成本低，設備耗能低，無需專人管理與維護，只需作定期檢查。UV光解法因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設備性能安全穩定。

以上關于集成電路廢氣處理方法介紹，希望可以幫到您，其實對于集成電路廢氣處理，一般是需要根據廢氣的濃度、產生量、廢氣成分、如何收集等方面進行設計收集處理。如果您有集成電路廢氣需要凈化處理，可以隨時撥打400 808 2272電話，咨詢天浩洋環保,為您提供集成電路廢氣處理方案及設備。