1.UV光解廢氣處理器簡述

UV光解廢氣處理器是指利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧（即活性氧），因游離氧所攜帶正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協同光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳。

2.UV光解廢氣處理技術原理

（1）利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

（2）利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜帶正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧對有機物具有很強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。

（3）有機廢氣、惡臭氣體利用排風設備輸入到UV光解廢氣凈化設備后，UV光解廢氣凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

（4）利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到有效脫臭及殺滅細菌的目的。

3.UV光解廢氣處理器優勢

（1）高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味氣體，脫臭效率可達到95%以上，脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

無需預處理：有機氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-11范圍均可正常工作。

（2）無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體以及工業廢氣通過UV光解廢氣凈化設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。

（3）適應性強：可適應中低濃度，不同工業廢氣物質的脫臭、凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。

（4）運行成本低：無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，設備能耗低，設備風阻低<50pa,可節約大量排風動力能耗。

（5）安全可靠：因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設備性能安全穩定，特別適用于采油(氣)田、石油化工、制藥等防爆要求高的行業。

4.UV光解廢氣處理器應用范圍

印刷、印染、電子、塑料、涂料、噴涂、家具、橡膠、化工、造紙、皮革、制藥、食品加工、飼料、屠宰、污水處理、垃圾分揀及中轉等行業及領域的惡臭氣體、工業廢氣的凈化處理。